■最大到達温度1,000℃、高速昇温が可能な、真空・プロセスガス対応 高速アニール加熱装置 MODEL RTP-150、及び、最大到達温度450℃、高速昇温/水冷による高速降温が可能な、ギ酸還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 MODEL-450-210を出展します。