2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[13a-1C-1~10] 13.4 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

2015年9月13日(日) 09:00 〜 11:45 1C (135)

座長:河本 直哉(山口大),松尾 直人(兵庫県立大)

10:15 〜 10:30

[13a-1C-5] PH3プラズマ処理及び大気圧マイクロ熱プラズマジェット照射によるシリコン膜中への不純物ドーピング

〇(M1)新 良太1、森崎 誠司1、東 清一郎1 (1.広大先端研)

キーワード：不純物ドーピング