2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[13a-1D-1~11] 15.4 III-V族窒化物結晶

2015年9月13日(日) 08:45 〜 11:45 1D (141+142)

座長:平山 秀樹(理研),長谷川 繁彦(阪大)

09:00 〜 09:15

[13a-1D-2] 擬似Ⅲ-Ⅴ族窒化物半導体ZnSnN2のバルク結晶合成と評価

〇川村 史朗1、山田 直臣2、谷口 尚1 (1.物質・材料研究機構、2.中部大工)

キーワード:半導体、光触媒、ユビキタス元素

ZnSnN2はⅢ-Ⅴ族窒化物のⅢ族位置をⅡ族、Ⅳ族で交互に置き換えた擬似Ⅲ-Ⅴ族窒化物材料であり、第一原理計算から直接遷移半導体であることが示されている他、Sn位置をSiやGeで置き換えることで1.4~5.5eVまでバンドギャップ制御が可能であることが示唆されている。安価な元素のみから構成されるため、化合物太陽電池や光触媒として有望である一方で、分解温度が低く結晶合成が困難であった。本研究で、初めて高品質バルクZnSnN2結晶合成に成功した。