2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[13a-1D-1~11] 15.4 III-V族窒化物結晶

2015年9月13日(日) 08:45 〜 11:45 1D (141+142)

座長:平山 秀樹(理研),長谷川 繁彦(阪大)

09:30 〜 09:45

[13a-1D-4] 成長条件遷移過程の最適化によるGaN/AlN界面急峻性及び光電極特性の向上

〇中村 亮裕1、鈴木 道洋1、藤井 克司2、杉山 正和1、中野 義昭1 (1.東大工、2.GS+I)

キーワード:GaN、分極、光電気化学

GaNからAlNへの成長条件遷移過程を最適化することで, GaN/AlN界面の急峻性向上及びGaN/AlN/GaN光電極の特性向上に成功したので報告する.