2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

[13a-4C-1~12] 13.3 絶縁膜技術

2015年9月13日(日) 09:00 〜 12:15 4C (432)

座長:渡邉 孝信(早大),右田 真司(産総研)

11:00 〜 11:15

[13a-4C-8] ECRスパッタを用いたZrO2/Si構造の作成と評価

〇杉野 優介1、岩崎 好孝1、上野 智雄1 (1.農工大院工)

キーワード：高誘電率材料、ジルコニア、ECRスパッタ