[13p-1B-1~10] 界面ナノ電子化学　「進化する半導体ウェットプロセス　～シリコンから化合物まで～」

[13p-1B-8] ジャパンソニックでの微細化洗浄の課題

〇山本 義治¹ (1.ヤマトテクノス)

キーワード：半導体ウエーハ洗浄機

１）ジャパンソニックの特徴
a) 発泡性洗浄液によるウエーハ洗浄が可能
b) 微細化洗浄が可能