2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[13p-1C-1~15] 13.4 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

2015年9月13日(日) 13:15 〜 17:15 1C (135)

座長:鉄田 博(日新イオン機器),上野 和良(芝浦工大)

13:15 〜 13:30

[13p-1C-1] フォトマスク作製からトランジスタ試作までの
ミニマルトータルインラインプロセス

〇梅山 規男1,2、北山 侑司2、遠江 栄希2、数佐 純子2、クンプアン ソマワン1,2、原 史朗1,2 (1.産総研、2.ミニマルファブ技術研究組合)

キーワード:ミニマルファブ、フォトマスク

フォトマスクは通常、クリーンルーム内でも厳密にパーティクル管理されたイエロールームで製造される。ミニマルファブではクリーンルーム無しの環境下で人サイズの前工程ミニマル装置群を使い自らマスクを作ることが出来る。我々はマスクレス露光機を用いマスク製造を行い、そのマスクとウェハを密着露光させるアライナー露光を経て、トランジスターを試作した。この一連のインラインプロセスは数日間で完遂でき適用範囲も広い。