[13p-1D-1~26] 15.4 III-V-group nitride crystals

[13p-1D-17] High-quality AlN template for deep-UV LEDs grown on facet controlled patterned sapphire substrate(FC-PSS)

〇Yuuya Kanazawa^1,2, Hideki Hirayama¹, Noritoshi Maeda¹, Masafumi Jo¹, Norihiko Kamata², Yukio Kashima³, Eriko Matsuura³, Satoshi Shimatani⁴, Mitsunori Kokubo⁵, Takaharu Tashiro⁵, Takafumi Ohkawa⁶, Ryuichiro Kamimura⁶, Yamato Osada⁶ (1.RIKEN, 2.Saimata Univ., 3.MARUBUN, 4.TOKYO OHKA KOGYO, 5.TOSHIBA MACHINE, 6.ULVAC)

Keywords:patterned sapphire substrate,wet etch,AlN template

フォトリソグラフィ/ナノインプリント技術によって作製した6μm周期の三角格子パターンのウエットエッチングPSS上にMOCVDを用いてAlNを成膜した。異常成長が少なく平坦化が期待され、ボイドが観測された。