2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[13p-1D-1~26] 15.4 III-V族窒化物結晶

2015年9月13日(日) 13:15 〜 20:15 1D (141+142)

座長:斉藤 真(三菱化学),岡田 成仁(山口大),岩谷 素顕(名城大)

17:45 〜 18:00

[13p-1D-18] m面サファイア基板上半極性AlN/AlGaN層の結晶成長と光学特性

〇大島 一晟1,2、定 昌史1、前田 哲利1、鎌田 憲彦2、平山 秀樹1 (1.理研、2.埼玉大)

キーワード:半極性、AlNテンプレート、AlGaN

無極性及び半極性のAlGaNヘテロ構造は、深紫外発光ダイオード(DUV-LED)の高い内部量子効率(IQE)を得るために注目されている。本研究では、高い成長温度(~1500℃)でm面サファイア上に半極性AlN層を成膜し、平滑な表面を得た。また、成長時のV/III比を変えることによって、(1-103)面と(11-22)面のAlN層の結晶面を区別した。さらに、成膜したAlN上に半極性AlGaN層を作製し、室温で267 nmのDUVフォトルミネッセンス(PL)を得た。