2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[13p-1D-1~26] 15.4 III-V族窒化物結晶

2015年9月13日(日) 13:15 〜 20:15 1D (141+142)

座長:斉藤 真(三菱化学),岡田 成仁(山口大),岩谷 素顕(名城大)

14:00 〜 14:15

[13p-1D-4] X線トポグラフによるGaN基板の欠陥評価

〇中居 克彦1、永井 哲也1、野網 健悟1、佐々木 雅之1、二木 登史郎1 (1.日鉄住金テクノロジー)

キーワード:X線トポグラフ、GaN、転位

次世代パワーデバイス用基板であるGaN中の結晶欠陥を、X線トポグラフ、選択エッチング、TEMにより評価した。GaNの転位密度が1E4/cm2台まで下がる事で、異常透過が起こって透過X線トポグラフ観察が可能になることがわかった。