2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.1 光学基礎・光学新領域

[13p-2E-1~16] 3.1 光学基礎・光学新領域

2015年9月13日(日) 13:45 〜 18:15 2E (221-1)

座長:田中 嘉人(東大),宮本 克彦(千葉大),庄司 暁(電通大)

14:15 〜 14:30

[13p-2E-3] 高強度中赤外ラジアル偏光渦の発生

〇若山 俊隆1、及川 大基2、笹沼 淳史2、荒居 剛己2、藤井 雄介2、ヂン タン フン3、東口 武史2,3、坂上 和之4、鷲尾 方一5、三浦 泰祐6、高橋 昭彦7、中村 大輔8、岡田 龍雄8、米村 元喜1、大谷 幸利3 (1.埼玉医大、2.宇大工、3.宇大CORE、4.早大高等研究所、5.早大理工学術院、6.HiLASE Centre、7.九大医学研究院、8.九大システム情報)

キーワード:ラジアル偏光渦、中赤外レーザー

ラジアル偏光渦は,偏光と位相の特異点を持ったビームとして知られ,偏光状態は軸対称偏光の径偏光となり,その位相分布は螺旋状の位相を有している。高強度中赤外レーザーでラジアル偏光渦が生成されれば,物質と中赤外光の相互作用からレーザー加工や光トラッピングへの応用が期待できる。本研究では,ZnSe軸対称波長板から高強度中赤外ラジアル偏光渦を生成し,入出力特性を得たので報告する。