2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[13p-2H-1~21] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2015年9月13日(日) 13:45 〜 19:15 2H (222)

座長:矢嶋 赳彬(東大),藤原 宏平(東北大)

15:00 〜 15:15

[13p-2H-6] Si基板上高密度エピタキシャル鉄酸化物ナノドットの形成とスイッチング特性

〇渡辺 健太郎1、前田 佳輝1、中本 悠太1、松井 秀紀1、竹内 正太郎1、酒井 朗1、中村 芳明1 (1.阪大院基礎工)

キーワード:酸化鉄、ナノドット、抵抗スイッチング