[13p-2Q-1~27] 6.4 Thin films and New materials

[13p-2Q-11] Pulsed laser deposition of flat LiIH epitaxial thin films

〇Hiroyuki Oguchi^1,2, Shigehito Isobe^3,4, Susumu Shiraki⁵, Hiroki Kuwano¹, Shin-ichi Orimo^5,6, Taro Hitosugi⁵ (1.Tohoku Univ. Grad. School Eng., 2.Tohoku Univ. uSIC, 3.Hokkaido Univ. Grad. School Eng., 4.Hokkaido Univ. CRIS, 5.Tohoku Univ. AIMR, 6.Tohoku Univ. IMR)

Keywords:Hydride,Epitaxial thin film,Surface flatness

水素化物の多くは酸素や水分と瞬時に反応する性質(大気敏感性)を有していることから、成膜から評価まで一貫して大気非暴露で行う必要があり、PLDによる大気敏感水素化物の成長例はこれまで皆無であった。この状況を改善するため、我々はPLDを用いて、典型的な大気敏感水素化物であるLiHのPLD成膜に挑戦し、MgO基板上におけるエピタキシャル成長に成功した。本講演では、成長モードの理解に基づく、表面平坦なLiHエピタキシャル薄膜の作製について報告する。