PDF ダウンロード スケジュール 16 いいね! 1 15:15 〜 15:30 △ [13p-2T-5] エピタキシャルGeナノドット含有Si薄膜における熱電特性制御 〇(D)山阪 司祐人1、渡辺 健太郎1、澤野 憲太郎2、竹内 正太郎1、酒井 朗1、中村 芳明1 (1.阪大院基礎工、2.東京都市大総研) キーワード:シリコン、ゲルマニウム、ナノドット