[13p-4E-1~20] 6.5 Surface Physics, Vacuum

[13p-4E-3] Water dropping changes in Si(001) and (111) surfaces prepared in a UHV chamber

〇Tomoaki Miyagi¹, Akira Sasahara¹, Masahiko Tomitori¹ (1.JAIST)

Keywords:Silocon,Wettability

超高真空中で調製したSi(111)およびSi(001)の清浄、水素(H)終端、および極薄酸化膜表面に対し、窒素雰囲気化にて純水を滴下し、その接触角を測定した。そして、その後の各表面の状態をオージェ電子分光法と原子間力顕微鏡で調べた。H終端表面は親水性を示さなかったが、清浄表面と極薄酸化膜表面は超親水性を示した。この超親水表面の接触角を高精度で測定するために、光干渉稿を用いた算出法を試みた。最も親水性を示したのは極薄酸化表面であった。さらに、Si表面の反応性と表面上のシラノール基の割合の関係について議論した。