2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[13p-4E-1~20] 6.5 表面物理・真空

2015年9月13日(日) 13:15 〜 18:45 4E (437)

座長:小川 修一(東北大),大野 真也(横国大)

14:00 〜 14:15

[13p-4E-4] 水分子が吸着したGeO2/Ge構造の特異な帯電状態のAP-XPS観測

〇有馬 健太1、森 大地1、岡 博史1、細井 卓治1、川合 健太郎1、Liu Zhi2、渡部 平司1、森田 瑞穂1 (1.阪大院工、2.バークレー国立研)

キーワード:酸化膜、帯電、水蒸気

ambient-pressure XPSを用いて、水蒸気を含む気相中に置かれたGeO2/Ge及びSiO2/Si構造を観測した。そして、Ge3d及びSi2pスペクトルから各酸化膜の帯電状態を解析した。次に、それらを超高真空中で得たスペクトルと比較した。その結果、Ge基板上のGeO2薄膜はSi上のSiO2とは異なり、X線照射とは無関係に、水蒸気に触れるだけで酸化膜の正帯電が進行することが示唆された。