2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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[13p-4F-1~9] 液体シリコンの科学と最新動向

2015年9月13日(日) 13:15 〜 17:45 4F (438)

座長:近藤 道雄(産総研),寺川 朗(パナソニック)

16:30 〜 16:45

[13p-4F-7] 液体原料SiO2による高安定Si表面パッシベーション

〇萩原 千拡1、永吉 浩1 (1.東京高専)

キーワード:シリコン、パッシベーション、ナノワイヤ

本研究では一般的な熱酸化膜に代わる安価で効率的な表面パッシベーション方法として液体原料Perhydropolisilazane (PHPS)を用いたSiO2パッシベーションを試みている.用いる液体原料PHPSは-(SiH2NH)-を基本ユニットとする有機溶剤に可溶な無機ポリマーであり,大気中の水と反応し純粋なSiO2膜に転化する.加えて,PHPSはコーティング剤として大量生産されているため比較的安価である.今回は酸化膜特性,及びナノワイヤ上へのSiO2膜形成の予備実験結果について報告する.