[13p-PB6-1~20] 21.1 合同セッションＫ ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス

[13p-PB6-1] 大気圧CVD法によるβ-Ga₂O₃ナノ構造の成長とフォトルミネッセンス特性

〇寺迫 智昭¹、大森 裕也²、河﨑 雄樹²、佐伯 拓哉²、門田 直己²、宮田 晃²、矢木 正和³ (1.愛媛大院理工、2.愛媛大工、3.香川高専)

キーワード：酸化ガリウム、ナノ構造、フォトルミネッセンス

本講演では，ガリウム(Ga)と水(H₂O)を原料に用いた大気圧CVD(AP-CVD)法での触媒金属を介した気相-液相-固相(VLS)成長機構によるβ-Ga₂O₃ナノ構造成長と形状制御の可能性とフォトルミネッセンス(PL)特性について報告する．SEM観察ではVLSとVS成長機構の競合やAu微粒子サイズの温度変化によると考えられるナノ構造の形状の多様性が確認された．ナノ構造の形状によってPLスペクトルの形状が異なっていた。