[14a-1B-1~11] 21.1 合同セッションＫ ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス

[14a-1B-7] 大気圧非平衡プラズマを用いたZnO薄膜へのNドーピング

〇岩崎 裕徳¹、野瀬 幸則¹、吉村 武¹、芦田 淳¹、上原 剛²、藤村 紀文¹ (1.大阪府立大院工、2.積水化学)

キーワード：大気圧プラズマ、酸化亜鉛、窒素添加

大気圧非平衡プラズマがZnOへの窒素取り込み効率に及ぼす影響を調べるために、プラズマの発光特性とその薄膜成長への影響を検討した。0.1~760Torrにおけるプラズマ放電と放電開始電圧の変化を確認し、放電空間から2cm離れた位置で、窒素プラズマ中に高い反応性を持つ分子状励起種と高活性な原子状励起種が存在していることを確認した。