2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[14p-2H-1~15] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2015年9月14日(月) 13:45 〜 17:45 2H (222)

座長:吉松 公平(東工大),打田 正輝(東大)

14:00 〜 14:15

[14p-2H-2] SrIrO3-SrRuO3における界面誘起トポロジカルホール効果

〇松野 丈夫1、小川 直毅1、川﨑 雅司1,2、十倉 好紀1,2 (1.理研CEMS、2.東大工)

キーワード:スピン-軌道相互作用、スキルミオン、酸化物界面

界面での反転対称性の破れによるDzyaloshinskii-Moriya(DM)相互作用に着目し、強いスピン-軌道相互作用を持つSrIrO3(2 uc)と強磁性体SrRuO3m uc, m = 4–7)との界面を作製した。強磁性層の厚みmに対して減少するトポロジカルホール効果が観測された。界面にのみ存在するDM相互作用とSrRuO3の強磁性相互作用との競合により10–20 nm程度のスキルミオンが生成していると解釈される。これらは界面を用いてスキルミオンを生成する指導原理を与える。