[14p-2R-1~16] 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

[14p-2R-12] ガス浮遊炉を用いて作製したSiO₂ガラスの構造

〇正井 博和¹、小原 真司²、是枝 聡肇³、藤井 康裕³、尾原 幸治⁴ (1.京大化研、2.物材研、3.立命館大、4.JASRI)

キーワード：シリカガラス、浮遊法、構造解析

近年、浮遊炉を用いて作製された酸化物ガラスにおける興味深い研究が多数報告されている。一方で、浮遊炉で作製して得られるガラス球は、比較的早い冷却速度でガラス化するが、実際には界面近傍と内部とで冷却速度が異なる、つまり、仮想温度やネットワーク構造が異なることが示唆されている。本研究では主として、浮遊炉を用いて作製されたSiO₂球に対して、非弾性光散乱と高エネルギーX線回折におけるFirst sharp diffraction peak (FSDP)に注目して解析・議論をおこなう。