[14p-PA10-1~16] 6.4 薄膜新材料

[14p-PA10-16] 大気開放型CVD法を用いた単結晶MgO基板上に合成した酸化ストロンチウム膜

〇小松 啓志¹、齋藤 秀俊¹ (1.長岡技科大)

キーワード：酸化ストロンチウム、大気開放型CVD

我々は，常圧で準安定な酸素8配位の高圧相SrO:Eu²⁺青色蛍光体を単結晶MgO基板上での高温還元焼成プロセスを用いて合成した^1,2).高圧相SrO:Eu²⁺青色蛍光体は，高輝度な青色発光を示し，また従来のSrO結晶に比べて耐水性に優れている.より詳細な物性を調査する為には、高品質なバルク単結晶を用いるのが望ましい.そこで，大気開放型CVD法を用いて，広面積かつ高品質な高圧相SrOエピタキシャル膜の作製を試みる.大気開放型CVD法を用いて単結晶MgO基板上にSrO膜の合成を試み，得られたSrO膜の評価を行った.