2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

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[14p-PA10-1~16] 6.4 薄膜新材料

2015年9月14日(月) 16:00 〜 18:00 PA10 (イベントホール)

16:00 〜 18:00

[14p-PA10-16] 大気開放型CVD法を用いた単結晶MgO基板上に合成した酸化ストロンチウム膜

〇小松 啓志1、齋藤 秀俊1 (1.長岡技科大)

キーワード:酸化ストロンチウム、大気開放型CVD

我々は,常圧で準安定な酸素8配位の高圧相SrO:Eu2+青色蛍光体を単結晶MgO基板上での高温還元焼成プロセスを用いて合成した1,2).高圧相SrO:Eu2+青色蛍光体は,高輝度な青色発光を示し,また従来のSrO結晶に比べて耐水性に優れている.より詳細な物性を調査する為には、高品質なバルク単結晶を用いるのが望ましい.そこで,大気開放型CVD法を用いて,広面積かつ高品質な高圧相SrOエピタキシャル膜の作製を試みる.大気開放型CVD法を用いて単結晶MgO基板上にSrO膜の合成を試み,得られたSrO膜の評価を行った.