The 76th JSAP Autumn Meeting, 2015

Presentation information

Poster presentation

15 Crystal Engineering » 15.4 III-V-group nitride crystals

[14p-PB12-1~23] 15.4 III-V-group nitride crystals

Mon. Sep 14, 2015 6:30 PM - 8:30 PM PB12 (Shirotori Hall)

6:30 PM - 8:30 PM

[14p-PB12-8] First-Principles Calculation of Adsorption of Ga2O on GaN(0001) Surface

〇Takahiro Kawamura1,2, Akira Kitamoto2, Mamoru Imade2, Masashi Yoshimura2, Yusuke Mori2, Yoshitada Morikawa2 (1.Mie Univ., 2.Osaka Univ.)

Keywords:GaN,Vapor phase epitaxy,First principles calculation

Ga2OをGaソースとして用いるGaNの気相成長法は排気口を詰まらせる固体副生成物が無く連続成長が可能である事からバルクGaN成長法として期待されている.その成長過程を詳細に理解するため,本研究では第一原理計算を用いてGa2O分子がGaN(0001)表面へ吸着する過程のシミュレーションを行った.またGaN(0001)面上のGa2O吸着サイトについても検討した.