[15a-2Q-1~12] 8.4 Plasma etching

△ [15a-2Q-1] Detection of micro-arc discharge using load impedance monitoring system in mass-production plasma etching

〇Yuji Kasashima¹, Fumihiko Uesugi¹ (1.AIST)

Keywords:plasma etching,impedance monitoring,micro-arc discharge

半導体量産ラインのウエハ工程では、プラズマエッチング工程で発生する異常放電や剥離パーティクルが総合設備効率及び歩留り低下の原因となっている。異常放電は局所的かつ突発的に発生し、ウエハを損傷させるなど大きな問題となっており、実用的な検出手法が強く望まれている。本研究では量産装置への適用性に優れたインピーダンス測定システムを基に実用的な異常放電検出手法を開発した。