2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[15a-2Q-1~12] 8.4 プラズマエッチング

2015年9月15日(火) 09:00 〜 12:15 2Q (231-1)

座長:辰巳 哲也(ソニー),石川 健治(名大)

11:30 〜 11:45

[15a-2Q-10] 水素ラジカルおよびフロロカーボンイオン(CFx+)同時照射による
SiNエッチング機構の分子動力学シミュレーション解析

〇村上 雄一1、礒部 倫郎1、三宅 啓太1、深沢 正永2、長畑 和典2、辰巳 哲也2、浜口 智志1 (1.阪大院工、2.ソニー(株))

キーワード:シリコン窒化膜、分子動力学法、ハイドロフロロカーボンプラズマ

HFCプラズマによる、シリコン窒化膜とシリコン酸化膜の選択性エッチングを対象に、プラズマ中の水素の役割について、分子動力学シミュレーションにより解析した。