2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

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[15a-2Q-1~12] 8.4 プラズマエッチング

2015年9月15日(火) 09:00 〜 12:15 2Q (231-1)

座長:辰巳 哲也(ソニー),石川 健治(名大)

10:45 〜 11:00

[15a-2Q-7] [論文奨励賞受賞記念講演] Molecular dynamics simulations of silicon chloride ion incidence during Si etching in Cl-based plasmas

〇中崎 暢也1、鷹尾 祥典1、江利口 浩二1、斧 高一1 (1.京大)

キーワード:論文奨励賞

Molecular dynamics simulations of silicon chloride ion incidence during Si etching in Cl-based plasmas