[15a-2V-1~10] 8.2 Plasma measurements and diagnostics

[15a-2V-4] Surface wave probe measurement of electron density in pulse-modulated plasma etch system

〇YOSHINOBU OHYA¹, MANABU IWATA¹, HIDEO SUGAI² (1.TEL Miyagi, 2.Chubu Univ.)

Keywords:surface wave probe,electron density,reactive plasma

半導体製造の量産エッチング装置として、容量結合型プラズマに(CCP)おいてもパルス変調が広く用いられるようになってきた。CCP放電の電子密度計測として非常に有効な表面波プローブは、これまでは時間分解計測が困難であった。今回、ネットワークアナライザーをプラズマ生成のRF電源と同期させることで、1μsecオーダーの電子密度の時間分解計測をすることに成功した。