2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[15a-4C-1~13] 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2015年9月15日(火) 09:00 〜 12:30 4C (432)

座長:牧山 剛三(富士通研)

10:45 〜 11:00

[15a-4C-7] 裏面光照射電気化学法によるGaN陽極酸化表面の分析

〇枝元 将彰1、熊崎 祐介1、谷田部 然治1、佐藤 威友1 (1.北大量集セ)

キーワード:窒化ガリウム、光電気化学反応、陽極酸化

GaN表面のウェット酸化プロセスは、一般にバンドギャップ以上のエネルギーを持つ光(hn > Eg)を反応面である試料表面へ照射して行われる。本研究では、酸化過程の詳細を明らかにするため、試料裏面より光を照射しながら陽極酸化を行い、表面分析を行った。