[15a-PB3-1~12] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

△ [15a-PB3-8] シリサイドをテンプレートとしたIP6処理によるシリコン系ナノ構造物の作製

〇佐々木 謙太¹、佐野 晃希¹、孟 祥¹、鈴木 博明¹、立岡 浩一¹ (1.静岡大工)

キーワード：半導体、ナノ構造、シリサイド

近年、バルク結晶にない新しい物性の発現を目的としてナノスケールで構造制御された材料の開発が進められている。Si系ナノシートについてはCaSi₂結晶からCa原子の脱離することにより作成されてきた。これらの構造は元のシリサイドの基本構造を保持するためSi系ナノ構造の作製が期待される。ここでは様々なシリサイドをテンプレートとして用い、シリコン系ナノ構造物を室温、大気圧下での作製を試みた。