2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

21 合同セッションK » 合同セッションK ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス

[15p-1B-1~18] 21.1 合同セッションK ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス

2015年9月15日(火) 13:15 〜 18:00 1B (133+134)

座長:浦岡 行治(奈良先端大),神谷 利夫(東工大)

17:45 〜 18:00

[15p-1B-18] 塗布型有機ゲート絶縁膜を用いたトップゲート・セルフアライン型IGZO TFT

〇(D)戸田 達也1、曲 勇作1、古田 守1 (1.高知工大)

キーワード:IGZO、有機ゲート絶縁膜、セルフアライン

塗布型有機ゲート絶縁膜を用いた、トップゲート・セルフアライン型InGaZnO薄膜トランジスタ (IGZO TFT) の作製に取り組んだ。CVDフリーかつ、200 ℃以下(ポストアニール処理含む)の作製プロセスにより、飽和電界効果移動度7.8 cm2/V・s、S値0.28 V/dec.、ヒステリシス 0.4 V という良好なTFT特性を得ることが出来た。