2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.1 強誘電体薄膜

[15p-2L-1~13] 6.1 強誘電体薄膜

2015年9月15日(火) 13:45 〜 17:15 2L (2Fラウンジ2)

座長:藤沢 浩訓(兵庫県立大)

16:30 〜 16:45

[15p-2L-11] PLD法を用いたYbFe2O4薄膜成長時の組成変動に関する研究

〇樫本 涼1、吉村 武1、芦田 淳1、藤村 紀文1 (1.阪府大工)

キーワード:YbFe2O4、薄膜

RFe2O4(R:希土類元素)は電荷秩序構造を形成することによって強誘電性を発現することから電子強誘電体と呼ばれ注目を集めている。我々はこれまでにパルスレーザー堆積法を用いてYbFe2O4のエピタキシャル薄膜の作製に成功しその特性を報告してきた。しかし、組成分析の結果、表面にYb過剰層が生成し薄膜の平均組成がYb過剰になるという問題が顕在している。今回はこのような組成変動の原因に関して検討し、その抑制を試みたので報告する。