[15p-2L-1~13] 6.1 強誘電体薄膜

[15p-2L-13] UV/O₃加熱処理による溶液プロセスPb(Zr,Ti)O₃膜の低温作製

〇田頭 裕己¹、ファンチョン トゥエ^1,2、志村 礼司郎¹、佐藤 啓介^1,3、深田 和宏^1,2、李 金望¹、下田 達也^1,2、高村 禅^1,2 (1.北陸先端大、2.JST-CREST、3.JSR(株))

キーワード：MEMS、PZT、UV/O3加熱処理

研究ではオゾン中でのUV加熱処理(UV/O₃加熱処理)を用いてPZT薄膜の低温作製を試みた。UV/O₃処理は基板洗浄に用いられていたが、近年では溶液プロセスにおける酸化物薄膜のプロセスの低温化に適応され始めている。今回我々はPZT薄膜作成の低温化にUV/O₃加熱処理を適応した。PZTの原料として薄膜形成剤をスピンコーティングで塗布し大気中でホットプレートにより乾燥、UV/O₃加熱処理を行った。その後ホットプレートにより450 ℃大気中で結晶化させた。