The 76th JSAP Autumn Meeting, 2015

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Oral presentation

13 Semiconductors » 13.2 Exploratory Materials, Physical Properties, Devices

[15p-2R-1~22] 13.2 Exploratory Materials, Physical Properties, Devices

Tue. Sep 15, 2015 1:30 PM - 7:15 PM 2R (231-2)

座長:立岡 浩一(静岡大),鵜殿 治彦(茨城大)

6:15 PM - 6:30 PM

[15p-2R-19] Evaluation of BaSi2 semiconductor thin film fabricated by co-evaporation method

〇Atsuya Sasaki1, Akito Sasaki1, Yoshinori Kataoka1, Katsuaki Aoki1, Shuichi Saito1, Kumpei Kobayashi1 (1.Toshiba Materials)

Keywords:BaSi2,Transparent Conductive Oxide

BaSi2はその応用の広さから注目を集めており、デバイス応用に向けて低コストの製造方法を確立することが重要である。本研究では、メートルサイズの基板で量産が可能な共蒸着法によるBaSi2薄膜形成を試みた。また、BaSi2はデバイス化に当たって透明導電膜(TCO)上に積層されることが想定され、その際にTCO膜からBaSi2への酸素の拡散が半導体特性に大きな影響を与えると考えられる。今回、BaSi2/TCO膜の酸素拡散についても調査したので報告する。