The 76th JSAP Autumn Meeting, 2015

Presentation information

Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.1 Plasma production and control

[15p-2V-1~22] 8.1 Plasma production and control

Tue. Sep 15, 2015 1:00 PM - 7:00 PM 2V (234-1(South))

座長:杤久保 文嘉(首都大),三沢 達也(佐賀大)

4:00 PM - 4:15 PM

[15p-2V-12] Gas temperature measurement in DC-VHF magnetron plasma by absorption spectroscopy

〇KENTA SETAKA1, Takashi Fukui1, Kensuke Sasai1, Hirotaka Toyoda1,2 (1.Nagoya Univ., 2.PLANT, Nagoya Univ.)

Keywords:plasma,magnetron plasma,gas temperature

マグネトロンプラズマは酸化物材料を代表とする成膜プロセスに用いられる手法の一つである。一般的にスパッタ成膜における膜品質は成膜時の基板温度に影響されることが知られており、このことは膜品質がプラズマ放電条件に強く影響を受けることを示唆している。今回我々は狭線幅レーザーを用いた吸収分光法によりVHF-DC重畳マグネトロンプラズマのガス温度計測をおこなったので報告する。