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△ [15p-2W-8] 低抵抗率基盤を用いた Gated Silicon Drift Detector のシミュレーション
キーワード:X線検出素子
抵抗率2 kΩ·cm、膜厚0.5 mm、印加電圧 -150 VのGated Silicon Drift Detectorの電位分布をシミュレーションした。シミュレーションされた電位分布からは、X線照射で生成された電子がスムーズにアノードに到達できることがわかった。このことから、先の設計で安価なGSDDの作製が可能であることが分かった。