2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[15p-4F-1~25] 6.2 カーボン系薄膜

2015年9月15日(火) 13:15 〜 20:00 4F (438)

座長:小山 和博(デンソー),齊藤 丈靖(大阪府立大),嘉数 誠(佐賀大)

17:45 〜 18:00

[15p-4F-17] 原料気体の高炭素濃度化によるヘテロエピタキシャルダイヤモンドの高速成長

〇藤田 高吉1、児玉 英之1、鈴木 一博2、澤邊 厚仁1 (1.青学大理工、2.トウプラスエンジニアリング)

キーワード:ダイヤモンド膜、プラズマCVD