2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

[16a-2D-5~12] 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

2015年9月16日(水) 10:15 〜 12:15 2D (212-2)

座長:上野 智雄(農工大)

10:45 〜 11:00

[16a-2D-7] ラマン分光法によるコバルトシリサイド形成過程の評価

〇(M1)山村 和也1、西垣 宏1、蓮池 紀幸1、播磨 弘1、Woo Sik Yoo2 (1.京都工繊大、2.Wafer Masters Inc.)

キーワード：コバルトシリサイド、ラマン分光法