[16a-2H-1~13] 6.3 Oxide electronics

[16a-2H-2] Fabrication of AlO_x thin films by photochemical deposition

〇Shunta Sato¹, Masaya Ichimura¹ (1.NIT)

Keywords:photochemical deposition,aluminum oxide,thin films

酸化アルミニウム(Al₂O₃)は大きなバンドギャップ、高い絶縁破壊電界を持つ化学的、熱的に安定な物質であり保護膜などに応用されている。酸化アルミニウム薄膜の堆積はこれまでに様々な方法で行われている。また電気化学堆積法によって堆積を行なったという報告もあり、堆積溶液にはAl₂(SO₄)₃とNa₂S₂O₃を溶かした水溶液が用いられている。本研究では同様の堆積溶液を用いて、安価な薄膜作製法である光化学堆積(PCD)法によってAlO_x薄膜の作製を行なった。