[16a-2Q-10~13] 8.3 deposition of thin film and surface treatment

[16a-2Q-12] Fabrication of ITO thin films by lift-off process using hybrid facing-target sputtering

〇Shinichi Morohashi¹, Naoyuki Harada¹, Takuya Murata¹ (1.Yamaguchi Univ.)

Keywords:Hybrid facing-target sputtering,Lift-off process

ハイブリッド対向スパッタを用いて，予めレジストでパターン形成されたガラス基板上にITO薄膜を堆積する，リフトオフプロセスの検討，及び電気抵抗率のプローバー測定で作製したITO薄膜の膜質評価を行った。