The 76th JSAP Autumn Meeting, 2015

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Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.3 deposition of thin film and surface treatment

[16a-2Q-10~13] 8.3 deposition of thin film and surface treatment

Wed. Sep 16, 2015 11:15 AM - 12:15 PM 2Q (231-1)

座長:野崎 智洋(東工大)

12:00 PM - 12:15 PM

[16a-2Q-13] Preparation of Er2O3/TiO2 Dielectric Multilayer Film by Sputtering Method

〇Tamiko Ooshima1, Sousuke Yamada1, Hiroharu Kawasaki1, Yoshihito Yagyu1, Takeshi Ihara1, Yoshiaki Suda1 (1.Natl. Inst. Tech. Sasebo Col.)

Keywords:sputtering,dielectric multilayer film

特定波長の光を透過するバンドパスフィルター(BPF)機能を有する誘電体BPF薄膜の作製を目的とし,高屈折率材料に酸化チタン(TiO2),低屈折率材料に酸化エルビウム(Er2O3)を用いて[Er2O3/TiO2]6/[Er2O3]2/[TiO2/Er2O3]6構造を持つ誘電体多層膜をスパッタリング法により作製した.本研究では,中心透過波長による膜厚設計,薄膜作製条件の最適化,および光学的特性について検討を行った.