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[16a-2R-3] Fe3Si/Si(111)ヘテロ界面の熱安定性の評価
キーワード:Fe3Si/Siヘテロ界面、イオンビーム解析、ホイスラー合金
本研究では,デバイス応用上も重要であるFe3Si/Si(111):2元系ヘテロ界面のイオンビーム解析を行い,その熱安定性を支配する要因について検討した.熱的安定性を静的原子変位もとめて評価した結果,673Kを境にして変位がほとんど変化しない領域1と急激に変化する領域2があることを見出した.それぞれの領域の物理的要因について考察した.