[16a-4E-1~8] 7.1 X線技術

[16a-4E-5] 極端紫外リソグラフィー用パルスCO₂レーザ装置の開発

〇巽 貴浩¹、ノバック クリストフ¹、菅沼 崇¹、黒澤 義明¹、濵野 紘明¹、川筋 康文¹ (1.ギガフォトン株式会社)

キーワード：EUV光源