[16a-PA2-1~60] 17 ナノカーボン（ポスター）

[16a-PA2-39] 臭素ドープ多層グラフェンの安定性

〇河本 啓輔¹、森 裕太¹、松本 勇二¹、宮崎 久生²、酒井 忠司²、梶田 明広²、上野 和良^1,3 (1.芝浦工業大学、2.東芝、3.SITグリーンイノベーション研究センター)

キーワード：ナノカーボン

Cu配線に代わるLSIの配線材料として、多層グラフェン（MLG）へのインターカレーションドーピングを想定している。LSIプロセス中におけるドーパントの脱離が懸念されるため、本研究では臭素ドープ多層グラフェンの安定性について調査した。