[16p-2Q-1~13] 8.3 deposition of thin film and surface treatment

△ [16p-2Q-4] Properties of high power pulsed sputtering with facing targets

〇Toshihiko Mishima¹, Takashi Kimura¹, Kingo Azuma², Setsuo Nakao³ (1.Nagoya Inst. of Tech., 2.Univ. of Hyogo, 3.AIST)

Keywords:plasma

ハイパワーパルススパッタ(HPPS)を用いた成膜において、従来のHPPSではスパッタリングされたターゲット粒子のイオン化率が低いという欠点がある。この欠点を改善するため、本研究では対向ターゲット型HPPSによる成膜実験を行う。対向ターゲット型HPPSは従来のHPPSよりも狭い領域で高密度のプラズマを生成することでターゲット粒子のイオン化率向上が期待でき、高速中性粒子による膜へのダメージが軽減されるという利点もある。