[16p-2Q-1~13] 8.3 プラズマ成膜・表面処理

△ [16p-2Q-4] 対向ターゲット型ハイパワーパルススパッタの特性

〇三島 俊彦¹、木村 高志¹、東 欣吾²、中尾 節男³ (1.名工大工、2.兵庫県立大学、3.産総研)

キーワード：プラズマ

ハイパワーパルススパッタ(HPPS)を用いた成膜において、従来のHPPSではスパッタリングされたターゲット粒子のイオン化率が低いという欠点がある。この欠点を改善するため、本研究では対向ターゲット型HPPSによる成膜実験を行う。対向ターゲット型HPPSは従来のHPPSよりも狭い領域で高密度のプラズマを生成することでターゲット粒子のイオン化率向上が期待でき、高速中性粒子による膜へのダメージが軽減されるという利点もある。