シンポジウム(口頭講演)
[11p-D9-1~7] 斜め蒸着法,GLAD,STF等,シャドウイングによるナノ形態の制御と評価
2015年3月11日(水) 13:15 〜 17:00 D9 (16-304)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
13:15 〜 14:00
〇鈴木 基史1 (1.京大院・工)
14:00 〜 14:30
〇服部 梓1、田中 秀和1 (1.阪大産研)
14:30 〜 14:45
〇伊東 孝将1、中嶋 薫1、木村 健二1、鈴木 基史1 (1.京大院工)
14:45 〜 15:15
〇井上 泰志1、高井 治2 (1.千葉工大工, 2.関東学院大)
休憩 (15:15 〜 15:30)
15:30 〜 16:00
〇澄川 貴志1、北村 隆行1 (1.京大工)
16:00 〜 16:30
〇高田 昭夫1、小池 伸幸1、高橋 英司1 (1.デクセリアルズ(株))
16:30 〜 17:00
〇Yuriy Pihosh1, Kazuma Mawatari1, Masahiro Tosa2, Takehiko Kitamori1 (1.University of Tokyo, 2.NIMS)