[11a-A29-1~13] 13.4 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[11a-A29-6] シリコンフォトニクス光集積回路におけるプロセス課題(I) 高精度加工及びプロセスモニタリング

〇堀川 剛^{1, 2}、志村 大輔²、鄭 錫煥²、徳島 正敏²、木下 啓藏²、最上 徹² (1.産総研, 2.PETRA)

キーワード：シリコンフォトニクス、光導波路、光集積回路