[11a-A29-1~13] 13.4 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[11a-A29-9] ミニマル装置を用いた連続プロセスでのPZT薄膜形成

〇数佐 純子¹、古賀 和博¹、梅山 規男¹、野田 大二³、扇子 義久^{1, 4}、千葉 貴史^{1, 5}、寺田 昌男^{1, 5}、クンプアン ソマワン^{1, 2}、原 史郎^{1, 2} (1.ミニマルファブ技術研究組合, 2.産総研, 3.マイクロマシンセンター, 4.リソテック, 5.坂口電熱)

キーワード：ミニマル