[11p-A16-1~11] 3.15 シリコンフォトニクス

△ [11p-A16-2] SiD₄を用いたECRプラズマCVD法による低損失SiN導波路作製

〇岡崎 功太^{1, 2}、西 英隆^{1, 2}、土澤 泰^{1, 2}、山本 剛²、山田 浩治^{1, 2} (1.NTTナノフォトニクスセンタ, 2.NTT先端集積デバイス研)

キーワード：シリコンフォトニクス、低温成膜、SiN導波路